光刻机：ASML（阿斯麦） 极紫外（EUV）光刻机每台售价达到 1.2 亿美元，重达 180 吨，零件超过 10 万个，运输时能装满 40 个集装箱，安装调试时间超过一年。除此之外，磨合与提高良率都需要时间堆砌。ASML 在 2019 年出售了 26 台极紫外线 ( EUV ) 光刻设备，大概一半供给了台积电。
ASML 诞生于 1984 年，脱胎于飞利浦实验室，以研究 Stepper 起家，早几年它想和 P&E、GCA、IBM 合作，但这些大佬都不理它。彼时，荷兰一家叫 ASM International 的小公司主动要求合作。飞利浦犹豫了一年，勉强同意成立股权对半的合资公司，这就是阿斯麦。2000 年台积电关键人物林本坚带着颠覆 ASML 发展的 " 浸入式光刻 " 设想与 ASML 合作。
上海微电子装备 ( SMEE )作为国内光刻设备的龙头企业，由于起步较晚且技术积累薄弱，目前最先进的光刻设备也只能提供最高 90mn 的工艺技术。
近期国产光刻机迎来好消息：上海微电子公司打破封锁，研发出 22nm 光刻机，这也是我国在光刻机领域的先进水平。
光刻机：
第四代ArF 波长193 nm,
（步进式扫描投影130-65nm、浸没式步进扫描45-22nm）；
第五代EUV 波长13.5nm,极紫外光刻22-7nm。
自动化步进式光刻机 ( Stepper )
判断分辨率的公式：CD=k1* ( λ /NA )
(DVOL本文转自：中国DV传媒 http://www.dvol.cn)
